| 摩尔定律是集成电路行业的又一里程碑。刘明表示，从技术上来看，集成电路其实是一个发展得非常有规律的行业。正如摩尔定律所言，集成电路的工艺技术每18～24个月就会更新一代，新一代技术和上一代技术相比，它的面积会缩小，性能会提升，功耗也会降低。集成电路在一段时间里会一直沿着这样的规律发展。“在整个集成电路发展最美好的时期里，集成电路的尺寸不断微缩，密度不断增加，但是功率密度不变。”刘明说道。 技术创新是发展原始动力 为什么集成电路能够如此有规律地发展？刘明认为，在整个集成电路的发展历程中，技术创新是它的原始动力。回顾集成电路产业的发展，在尺寸微缩的整个历程中，无论是材料、器件结构，还是光刻技术、封装和EDA工具，甚至连商业模式都在不断发生着创新。 刘明以材料领域为例说道，上世纪80年代的集成电路生产线只有12种材料，上世纪90年代有五种新材料进入集成电路生产，21世纪以后有大量新材料进入产线。在刘明看来，今天的硅基集成电路更像一个平台，正因为自身的开放性和包容性，硅技术才能一直发展下去，让其他新技术和新材料弥补自己的不足。 器件结构也在一代一代地更新、发展。面对更高密度和更小尺寸的器件，光刻技术正在不断创新，EUV技术正在进一步演化。刘明指出，在7纳米工艺节点，EUV只用了5～6成，3纳米工艺节点有20层光刻要用到EUV技术，如果没有EUV技术，是很难实现量产的。 能否将自由电子激光作为EUV光源？刘明在演讲中表示，这也是一个国际上比较热的话题。软科学等一些其他的技术同样会在光刻技术中起到越来越重要的作用。 在整个集成电路产业的发展过程中，尺寸微缩成为了一个最重要的驱动力，它的确曾经为集成电路性能的提升带来了非常大的红利。刘明以处理芯片为例说道，在集成电路发展的“美好时期”里，单纯依靠尺寸微缩，处理芯片的算力每年就可以提高52%，推动了计算机的高速发展。 但是现在，刘明指出，这一红利空间已经在逐步缩小。现阶段，单纯依靠尺寸微缩为处理芯片带来的性能提升只有3%左右。在很多情况下，处理芯片性能的提升都是依靠架构并行处理来实现的。 基于先进封装的集成芯片 尺寸微缩能够走多远？集成电路产业应该选择哪条道路？刘明通过一系列数据在演讲中指出，目前如果微缩道路走不下去的话，先进封装其实是一条可以选择的道路。 |
GMT+8, 2024-4-27 00:34 , Processed in 0.021218 second(s), 16 queries .
Powered by Discuz! X2
© 2001-2011 Comsenz Inc.
